تخریب لایه ازون، سبب پیری زودرس می‌شود

لایه ازون از موجودات کره زمین در برابر پرتوهای مرگبار همانند یک سپر محافظت می‌کند. اقدامات بشری طی چندین سال اخیر سبب آسیب رساندن به لایه ازون شده و نگرانی‌های جهانی را به همراه داشته تا جایی که در سال ۱۹۸۵ میلادی ۲۱ کشور پیشرفته جهان برای جلوگیری از تخریب لایه حیاتی ازون در وین پایتخت اتریش گردهم آمدند تا سیاست‌های رویارویی با این معضل جهانی را اتخاذ کنند.

کد خبر: ۱۵۱۴۶۸

تاریخ: ۰۴ فروردين ۱۳۹۶ - ۱۸:۰۶

به گزارش ایران اکونومیست؛ در ارتفاع ۱۵ تا ۵۰ کیلومتری بالای سطح زمین، لایه‌ای به نام استراتوسفر وجود دارد که حجم زیادی از مولکول‌های ۳ اتمی اکسیژن به نام «ازون» در آن تجمع کرده‌اند.

مولکول‌های ازون گرچه ناپایدار هستند ولی توانایی جذب پرتو مرگبار فرابنفش خورشیدی موسوم به UV-B را دارند. این لایه که به ازون نیز مشهور است از موجودات کره زمین در برابر این پرتوهای مرگبار همانند یک سپر محافظت می‌کند. ازون در حالت عادی و در سطح زمین گازی بسیار سمی است که تماس با آن باعث سوزش و التهاب دردناک دستگاه تنفسی می‌شود اما در جو فوقانی لایه‌ای محافظ را تشکیل می‌دهد که تخریب آن موجب می‌شود تا پرتو فرا بنفش خطرناک خورشید صدمات جبران ناپذیری به موجودات روی کره زمین وارد آورد از جمله: آسیب دیدگی عدسی چشم (آب مروارید) و کوری، آفتاب سوختگی و نهایتا سرطان پوست، تضعیف سیستم دفاعی بدن، پیری زودرس، اختلال در مکانیزم فتوسنتز گیاهان و کاهش فضای سبز و محصولات کشاورزی، کاهش رشد و نابودی فیتو پلانکتون‌های موجود در آب دریاها که منبع اصلی غذایی موجودات بزرگتر دریایی به شمار می‌آیند و کمک به افزایش پدیده زمین گرمایی.

به گزارش دفتر حفاظت لایه ازون، نخستین بار در سال ۱۹۷۴ دو دانشمند آمریکایی به نام‌های «بن رولاند» و «ماریو مولینا» پی بردند که یون کلر موجود در برخی مواد شیمیایی ساخت دست بشر به نام «کلرو فلورو کربن‌ها یا سی‌اف سی‌ها» (CFCs) می‌تواند باعث تجزیه سریع مولکول ۳ اتمی ازون به مولکول ۲ اتمی اکسیژن گردد. بدین ترتیب که یک اتم کلر به یک مولکول ۳ اتمی ازون حمله کرده و یک اکسیژن آن را جذب نموده و تشکیل مونواکسید کلر (CLO) می‌دهد. در نتیجه مولکول ازون متلاشی و یک اتم اکسیژن رها می‌شود. از آنجا که مونواکسید کلر بسیار ناپایدار است به سرعت اتم اکسیژن خود را از دست می‌دهد و کلر آن مجددا به سراغ یکی دیگر از مولکول‌های ازون می‌رود. این فرآیند تا تخریب ۱۰۰ هزار مولکول ازون ادامه می‌یابد.

مواد مخرب لایه ازون و جایگزین‌های آنها

در بسیاری از مواد شیمیایی ساخت دست بشر اتم کلر وجود دارد که در این میان می‌توان از متیل کلروفرم و تترا کلرید کربن به عنوان حلال در صنایع الکترونیک و تولید چسب و رنگ، متیل بروماید به عنوان ماده ضدعفونی کننده در بخش کشاورزی، در سیستم‌های اطفاء حریق «سی اف سی‌ها» مانند گاز R-۱۲ در کمپرسورهای خنک‌کننده و گاز R-۱۱‌ به عنوان ماده پف‌دهنده در صنایع اسفنج‌سازی نام برد.

اقدامات بین المللی برای جلوگیری از تخریب لایه ازون

در سال ۱۹۸۵، ۲۱ کشور پیشرفته جهان برای جلوگیری از تخریب لایه حیاتی ازون در وین پایتخت اتریش گردهم آمدند تا سیاست‌های رویارویی با این معضل جهانی را اتخاذ کنند. این اقدام منجر به تصویب کنوانسیون وین شد.

دو سال بعد یعنی در سال ۱۹۸۷، ۴۶ کشور جهان در مونترال کانادا موافقت کردند تا تولید و مصرف سی‌اف‌سی‌ها را طبق یک جدول زمان‌بندی شده به تدریج کاهش داده و در نهایت حذف کنند این موافقت به ایجاد پروتکل مونترال منجر گردید.

اقدامات ملی برای جلوگیری از تخریب لایه ازون

تشکیل کمیته ملی ازون

پس از الحاق ایران به کنوانسیون وین و پروتکل مونترال، در سال ۱۳۷۳ کمیته ملی ازون که عالی‌ترین مرجع قانونی تصمیم‌گیری و سیاستگذاری در خصوص اجرای مفاد پروتکل مونترال در ایران است، تشکیل شد.

ریاست این کمیته بر عهده معاون محیط زیست انسانی سازمان حفاظت محیط زیست است و اعضای آن عبارتند از: وزارتخانه‌های امور خارجه، صنعت، معدن و تجارت، کشاورزی، نفت، همچنین اداره گمرک، سازمان هواشناسی و سایر ارگان‌ها بر حسب مورد.

تاسیس دفتر حفاظت لایه ازون

به منظور اجرای مصوبات پروتکل در ایران، ایجاد مرکزی با عنوان دفتر حفاظت لایه ازون تحت طرح توانمندسازی با همکاری سازمان حفاظت محیط زیست و برنامه عمران سازمان ملل متحد (UNDP) در دهمین کمیته اجرایی پروتکل مونترال در سال ۱۹۹۳ (۱۳۷۲ شمسی) به تصویب رسید. این دفتر کار خود را به طور رسمی از سال ۱۳۷۳ با اهدافی مانند فعالیت به عنوان دبیرخانه کمیته ملی ازون، هماهنگی برای تسهیل در اجرای پروژه‌ها، جمع آوری، تجزیه و تحلیل آمار و اطلاعات مربوط به واحدهای مصرف‌کننده مواد مخرب لایه ازون و هماهنگی بین آژانس‌های اجرایی برای تسهیل در اجرای پروژه‌ها آغاز کرد.

انتهای پیام