پنجشنبه ۲۲ آذر ۱۴۰۳ - 2024 December 12 - ۹ جمادی الثانی ۱۴۴۶
۱۹ بهمن ۱۴۰۱ - ۰۸:۵۶

ضد آب شدن قطعات الکترونیکی با فناوری ایرانی

یکی از شرکت‌های فناور با استفاده از سامانه پردازش پلاسمایی تحت خلأ امکان ایجاد خاصیت ضدآب را در قطعات الکترونیکی فراهم می‌کند.
ضد آب شدن قطعات الکترونیکی با فناوری ایرانی
کد خبر: ۵۸۳۱۶۷

به گزارش ایران اکونومیست ​، وسایل الکترونیکی، نسبت به رطوبت حساس هستند و آب‌ گریزبودن این وسایل، زمانی اهمیت خود را نشان می‌دهد که ابزارهای الکترونیکی به طور ناخواسته در معرض رطوبت شدید قرار گیرند یا با آب تماس پیدا کنند. بسیاری از وسایل مانند مدارات چاپی الکترونیکی، گوشی تلفن، هدفون، بردهای الکترونیکی و ادوات برقی، به این خاصیت نیازمند هستند.

سامانه پردازش پلاسمایی تحت خلأ، دستگاهی است که امکان ضد آب‌کردن سطوح و اشیای دوبعدی و سه‌بعدی را داشته و می‌تواند برای تولید محصولات ضد آب، به‌ویژه صنایع الکترونیک و یا نساجی، مورد استفاده قرار گیرد.

ایجاد سطوح آب‌گریز و آب‌دوست، تمیزکاری سطوح، فعال‌سازی سطح، بهبود چسبندگی، ضدلک کردن و بهبود خاصیت ترشوندگی از جمله مزیت‌های این فناوری است

 از کاربردهای دیگر این سامانه می‌توان به ایجاد خاصیت ضدلک، ایجاد خاصیت آب‌گریزی فعال‌سازی سطح، کندسوز کردن و یا ایجاد خاصیت آب‌دوستی دائمی و بهبود چسبندگی در مواد اشاره کرد.

به نقل از ستاد نانو، سیستم پردازش پلاسمایی تحت خلأ دستگاهی است که به منظور پردازش و فعال‌سازی سطح و یا رسوب یک لایه نازک پلیمری با خواص مورد نظر بر روی سطوح مختلف مورد استفاده قرار می‌گیرد.

پردازش پلاسمایی با استفاده از این سیستم در یک محفظه با اتمسفر کنترل شده، تحت خلأ متوسط و با ورود گازهای منتخب انجام می‌شود. برای انجام این کار، ابتدا سطح توسط گاز یا مخلوطی از گازهایی که توسط یک مولد فرکانس رادیویی (RF) یونیزه می‌شوند، تمیز شده و فعال می‌شود. در ادامه بسته به ویژگی‌های مورد نظر، یک منومر گازی یا مایع مناسب در محفظه تزریق می‌شود. مولکول‌های مونومر به کمک انرژی امواج فرکانس رادیویی از هم جدا شده و باعث ایجاد الکترون‌های آزاد، یون‌ها، رادیکال‌های آزاد و … می‌شوند.

رادیکال‌ها روی سطح، جذب و پلیمریزه می‌شوند. اتصال الکترون‌ها و یون‌ها با یکدیگر و ایجاد پیوند شیمیایی با مولکول‌های رسوب‌دهی شده روی سطح منجر به ایجاد یک لایه ضخیم و متراکم روی سطح می‌شود که ضخامت آن قابل کنترل و بین ۳۰ تا ۳۰۰ نانومتر خواهد بود.

 

آخرین اخبار